光刻 一般光刻工藝要經歷硅片表面清洗烘寫、涂底、旋涂光刻膠、軟烘、對準、后烘、顯影、硬烘、刻蝕、檢測工序。光刻硅片清洗烘寫
光刻是將掩模版上圖形轉移到涂有光致抗蝕劑(或稱光刻膠)硅片上,經一系列生產步驟將硅片表面薄膜…
首頁 > 光刻工藝版權所有:北京金盛微納科技有限公司 2016 京ICP備09044657號 京公網安備:110108004205號 客:010-82709250/82708340/82708025 技術支持:云夢網絡
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