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真空鍍鋁薄膜是真空蒸鍍金屬薄膜一種,它是在高真空(10mba以上)條件下,以電阻、高頻或電子束加熱使鋁熔融氣化,在薄膜機材表面附著而形成復(fù)合薄膜...
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以磁控濺射沉積方法 ,采用循環(huán)氬離子轟擊鍍和未循環(huán)轟擊鍍工藝在金屬鈾上制備了鋁薄膜。 Auger electron spectroscopy (AES) analysis shows there is a significant...
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